admin 发表于 2025-8-6 15:49:49

扩晶机的工作原理

扩晶机(Wafer Expander / Die Expander)是半导体封装工艺中的关键设备,主要用于解决切割后的晶圆(贴覆在蓝膜上)因切割应力导致的芯片(Die)间距过小问题。其核心工作原理是利用‌热膨胀物理效应‌和‌机械拉伸‌的组合,‌精确可控地增大芯片之间的间隙‌,为后续的芯片检测、分选和拾取创造有利条件。图片来源于网络以下是其详细的工作原理和步骤:
[*]‌装片与固定:‌

[*]将已完成切割(Dicing)但芯片仍附着在蓝膜(Dicing Tape)上的晶圆(Wafer)放置在扩晶机载物台(通常为环形框架载体)上。
[*]晶圆被可靠地固定或真空吸附在载物台中心位置。载物台通常设计为可旋转或可移动,方便调整位置。
[*]‌加热扩张(核心步骤):‌

[*]‌加热蓝膜:‌ 扩晶机的关键部件是一个加热圆环(或加热板)。这个加热环被精确地压在晶圆外围的蓝膜上(不接触芯片区域)。
[*]‌蓝膜热膨胀:‌ 蓝膜主要是由高分子聚合物(如聚氯乙烯PVC、聚烯烃PO等)制成,具有较高的热膨胀系数。当加热环施加一定的温度(通常在40°C - 80°C范围内,具体温度取决于蓝膜类型和工艺需求),被加热区域的蓝膜受热膨胀。
[*]‌径向拉伸:‌ 蓝膜的膨胀是径向的(由中心向外辐射)。由于晶圆边缘的蓝膜被加热环固定住,而中心区域的蓝膜与晶圆和载物台固定,受热膨胀的蓝膜主要向其相对自由的‌径向方向‌伸展。
[*]‌增大芯片间距:‌ 蓝膜的径向膨胀直接导致附着在其表面的芯片(Die)也随之被向外拉伸。原本因切割应力而紧绷、间距很小的芯片,随着蓝膜的扩展,芯片之间的间隙(Die Street)被均匀地、可控地增大。
[*]‌冷却定型(可选,但常用):‌

[*]在达到所需的扩张量(通常以增加的百分比表示,如增加0.2% - 1.0%的面积或对应间距增加)并保持一段时间后,关闭加热。
[*]让蓝膜在扩张状态下自然冷却或辅助冷却。冷却过程中,蓝膜会略微收缩,但只要加热控制得当,大部分扩张变形会被保留下来(即发生塑性变形或应力松弛),芯片间距得以维持在新增大后的尺寸上。
[*]‌机械扩张(辅助/可选):‌

[*]除了加热膨胀,部分高性能扩晶机还结合了‌机械扩张机构‌。
[*]机械扩张通常是在加热膨胀的同时或之后,通过一个可移动的‌扩张环/伞‌来实现。这个环被设计成可以向下(或向外)运动,压在晶圆边缘的蓝膜区域或环形框架上。
[*]向下运动的扩张环进一步‌径向拉伸‌蓝膜,提供额外的、更精确可控的扩张力。这对于需要更大扩张量或更精确控制扩张均匀性的应用非常有效。
[*]机械扩张可以补偿单纯热膨胀可能存在的均匀性问题。
[*]‌完成与卸载:‌

[*]当芯片间距达到设定的目标值并稳定后,扩张过程结束。
[*]加热环(和扩张环)抬起复位。
[*]扩张完成后的晶圆(芯片间距增大)被移出扩晶机,送入下一工序,如芯片外观检测(AOI)、芯片测试、或芯片分选/拾取(Die Attach)。
‌扩晶机工作的关键点:‌
[*]‌依赖蓝膜特性:‌ 扩晶效果高度依赖于所用蓝膜的热膨胀系数、弹性模量和玻璃化转变温度等特性。不同的蓝膜需要不同的加热温度曲线。
[*]‌均匀性与控制:‌ 加热的均匀性、温度控制的精确度以及机械扩张的同心度至关重要,直接影响最终芯片间隙增大的均匀性。不均匀扩张会导致芯片位置偏差,影响后续拾取精度。
[*]‌扩张量可控:‌ 通过精确控制加热温度、时间以及机械扩张的位移量,可以精确控制芯片间距增大的幅度。
[*]‌释放应力:‌ 扩张过程不仅增大了间距,同时也有效释放了切割过程中在晶圆和蓝膜内部积聚的应力,有助于减少芯片边缘崩裂(Chipping)和蓝膜褶皱(Wafer Warpage)。
‌总结来说,扩晶机的工作原理主要是利用蓝膜受热后显著的热膨胀特性,在加热环的固定和引导下,使蓝膜发生径向膨胀,从而附着其上的芯片向外移动,增大芯片间隙;辅以机械扩张机构,实现更精确和更大范围的扩张控制。最终目的是为高效率、高精度的芯片分选和拾取做好准备。
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