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    <title>半导贴吧 - 光刻机</title>
    <link>https://www.bdtb6666.com/forum-32-1.html</link>
    <description>Latest 20 threads of 光刻机</description>
    <copyright>Copyright(C) 半导贴吧</copyright>
    <generator>Discuz! Board by Discuz! Team</generator>
    <lastBuildDate>Mon, 01 Jun 2026 19:40:29 +0000</lastBuildDate>
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      <title>半导贴吧</title>
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      <title>光刻机数值孔径(NA)是什么意思</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-5850-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[光刻机数值孔径（Numerical Aperture，简称NA）是衡量光学系统收集和聚焦光线能力的关键参数，直接影响光刻分辨率。‌NA值越高，光刻机能刻画的电路线条越精细，芯片制程节点也就越先进‌。
具体来说，数值孔径由以下公式定义：
‌NA = n × sinθ‌
其中：

[*]‌n‌  ...]]></description>
      <category>光刻机</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Wed, 04 Feb 2026 09:07:11 +0000</pubDate>
    </item>
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      <title>佳能FPA-3000i5+设备性能</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-5849-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[佳能FPA-3000i5+是一款广泛应用于成熟制程半导体制造的i线步进式光刻机，具备高分辨率、高对准精度和良好的工艺兼容性，适用于功率器件、MEMS、传感器及物联网芯片的大批量生产。以下是其核心技术参数：
‌佳能FPA-3000i5+ 技术参数对比表‌

佳能FPA-3000i5+与主流i线 ...]]></description>
      <category>光刻机</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Wed, 04 Feb 2026 08:45:14 +0000</pubDate>
    </item>
    <item>
      <title>ASML远程关停能力</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-1026-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[ASML公司确实具备远程关停光刻机的能力，这一技术特性已通过多个可信渠道得到证实‌。以下是关键信息梳理：
技术实现机制
[*]‌远程诊断系统‌：ASML光刻机内置的远程维护系统可通过云端进行设备监控和软件更新，该功能被证实包含远程关停能力‌。EUV光刻机需每三个月更 ...]]></description>
      <category>光刻机</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Sun, 12 Oct 2025 02:46:27 +0000</pubDate>
    </item>
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      <title>成立仅半年 上海芯上微装第500台步进光刻机交付</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-943-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[出处：快科技快科技8月10日消息，日前，上海芯上微装科技股份有限公司（简称“芯上微装”）宣布，其第500台步进光刻机成功交付，标志着我国高端半导体装备产业迈入新阶段。据了解，先进封装光刻机是芯上微装的核心产品，具备高分辨率、高套刻精度、超大曝光视场等特点， ...]]></description>
      <category>光刻机</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Sun, 10 Aug 2025 01:22:02 +0000</pubDate>
    </item>
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      <title>一场知识挑战赛，打开ASML的“全景光刻”黑科技宇宙</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-856-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[出处：半导体行业观察
在如今的半导体产业中，光刻作为芯片制造的核心工艺，愈发受到重视，在这场围绕纳米级精度的技术竞逐中，ASML的表现尤为瞩目。
但ASML的能力，远不止于制造众所周知的光刻机。在光刻这门微观艺术里，ASML早已构建出一整套覆盖前后工序、软硬结合的 ...]]></description>
      <category>光刻机</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Fri, 27 Jun 2025 08:22:06 +0000</pubDate>
    </item>
    <item>
      <title>High-NA EUV（高数值孔径极紫外光刻）技术</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-422-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[光刻技术的革命性突破：High-NA EUV技术深度解析半导体行业正在迎来一个关键转折点——随着摩尔定律的持续推进，芯片制程逐渐逼近物理极限，而‌High-NA EUV（高数值孔径极紫外光刻）技术‌的诞生，被视为下一代芯片制造的“破局者”。本文将深入解析这项技术的原理、优 ...]]></description>
      <category>光刻机</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Sat, 22 Mar 2025 06:24:17 +0000</pubDate>
    </item>
    <item>
      <title>光刻设备DUV、EUV与EB的区别</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-419-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[‌DUV、EUV与EB设备的区别‌一、‌基础定义与原理‌
[*]DUV（深紫外光刻）‌

[*]‌光源‌：采用193nm波长的深紫外光（如ArF激光器）‌。
[*]‌原理‌：基于传统光学透射系统，通过透镜或反射镜将掩膜图案投影到硅片表面‌。
[*]‌技术增强‌：结合浸没式光刻（液体介质 ...]]></description>
      <category>光刻机</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Sat, 22 Mar 2025 04:34:43 +0000</pubDate>
    </item>
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      <title>光刻机中的驻波效应</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-397-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[光刻机中的驻波效应：芯片制造的\&quot;隐形杀手\&quot;与破解之道‌
——从物理现象到纳米级芯片的生死博弈在半导体制造领域，光刻机被誉为\&quot;人类工业皇冠上的明珠\&quot;，而驻波效应（Standing Wave Effect）则是这颗明珠上最顽固的尘埃。当光刻机将电路图案投射到硅片表面时，看似完美 ...]]></description>
      <category>光刻机</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Fri, 21 Mar 2025 04:41:48 +0000</pubDate>
    </item>
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      <title>半导体光刻工艺中的光学系统像差：球差、彗差</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-396-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[‌半导体光刻工艺中的光学系统像差：球差、彗差与挑战‌在现代半导体制造中，光刻技术是推动摩尔定律的核心驱动力之一。光刻机的光学系统需要将掩模版上的纳米级图案精确投影到硅片上，这一过程对光学系统的成像质量要求近乎苛刻。然而，光学系统的像差（Aberrations） ...]]></description>
      <category>光刻机</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Fri, 21 Mar 2025 04:37:49 +0000</pubDate>
    </item>
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      <title>EUV光刻机</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-369-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[EUV光刻机：半导体制造的精密引擎与产业变革核心
一、技术原理与核心突破EUV（极紫外光刻机）作为芯片制造领域的关键设备，采用波长仅13.5纳米的极紫外光，通过高精度光学系统将电路图案刻蚀至硅晶圆‌。其光源生成需激光以每秒5万次的频率轰击液态锡珠，产生比太阳表面 ...]]></description>
      <category>光刻机</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Wed, 19 Mar 2025 03:01:55 +0000</pubDate>
    </item>
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      <title>半导体制造的革命性突破：气浮隔振技术如何“托起”纳米级工艺的精度未来？</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-318-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[引言‌：在半导体行业“纳米即战场”的今天，1纳米的振动偏移足以让价值上亿的芯片产线报废。当全球顶尖厂商为3nm、2nm工艺厮杀时，一项看似“悬浮”的技术——气浮隔振，正悄然成为决胜关键。它如何用“空气”筑起屏障，守护芯片制造的“绝对静止”？[hr]‌一、纳米级 ...]]></description>
      <category>光刻机</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Fri, 14 Mar 2025 11:23:26 +0000</pubDate>
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      <title>光刻机是干什么的</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-31-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[光刻机是微电子制造领域的关键技术，用于高精度地将图案转移到硅片上。它在微电子器件制造中扮演五大角色：图案转移、必备设备、提高集成度、提升性能和降低成本。随着科技进步，光刻机不断完善，对微电子产业发展至关重要。


 ...]]></description>
      <category>光刻机</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Sun, 21 Jul 2024 05:01:26 +0000</pubDate>
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