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    <title>半导贴吧 - 涂胶显影</title>
    <link>https://www.bdtb6666.com/forum-33-1.html</link>
    <description>Latest 20 threads of 涂胶显影</description>
    <copyright>Copyright(C) 半导贴吧</copyright>
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    <lastBuildDate>Thu, 16 Apr 2026 22:46:50 +0000</lastBuildDate>
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      <title>半导贴吧</title>
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      <title>涂胶显影设备工作原理</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-30-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[涂胶显影设备工作原理
涂胶显影设备的工作原理主要包括涂胶和显影两个主要步骤，这两个步骤在半导体制造等行业中起着至关重要的作用。

涂胶步骤：首先，设备通过涂胶单元在基板上涂上一层光刻胶。这个过程可能包括使用机械手将基板从一个单元传输到另一个单元，确保光 ...]]></description>
      <category>涂胶显影</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Sun, 21 Jul 2024 04:48:31 +0000</pubDate>
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      <title>涂胶显影机的介绍</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-29-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[涂胶/显影机作为光刻机的输入（曝光前光刻胶涂覆）和输出（曝光后图形的显影），主要通过机械手使晶圆在各系统之间传输和处理，从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影、坚膜等工艺过程，其不仅直接影响到光刻工序细微曝光图案的形成，显影工艺的图形质量对后续蚀刻 ...]]></description>
      <category>涂胶显影</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Sun, 21 Jul 2024 04:44:12 +0000</pubDate>
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