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    <title>半导贴吧 - 氧化退火</title>
    <link>https://www.bdtb6666.com/forum-50-1.html</link>
    <description>Latest 20 threads of 氧化退火</description>
    <copyright>Copyright(C) 半导贴吧</copyright>
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    <lastBuildDate>Mon, 01 Jun 2026 19:40:24 +0000</lastBuildDate>
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      <title>半导贴吧</title>
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      <title>半导体快速退火炉的工作原理及作用</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-552-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[半导体快速退火炉的工作原理及作用一、快速退火炉的基本概念半导体快速退火炉（Rapid Thermal Annealing Furnace，RTA）是一种用于半导体制造工艺中的关键设备，主要用于对半导体材料进行快速高温处理。其核心特点是‌升温速率快‌（可达数百摄氏度/秒）、‌处理时间短 ...]]></description>
      <category>氧化退火</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Wed, 26 Mar 2025 04:19:54 +0000</pubDate>
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      <title>半导体氧化设备国内外知名厂商汇总</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-356-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[半导体氧化设备国内外知名厂商汇总
一、国外知名氧化设备厂商
[*]应用材料（Applied Materials）‌
全球半导体设备龙头，产品覆盖氧化/扩散炉、离子注入机等核心设备，主导全球氧化设备市场‌。
[*]东京电子（Tokyo Electron）‌
在氧化/扩散炉领域占据重要份额，技术覆 ...]]></description>
      <category>氧化退火</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Mon, 17 Mar 2025 11:45:57 +0000</pubDate>
    </item>
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      <title>氧化退火设备</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-48-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[氧化（Oxidation）是将硅片放置于氧气或水汽等氧化剂的氛围中进行高温热处理，在硅片表面发生化学反应形成氧化膜的过程，是集成电路工艺中应用较广泛的基础工艺之一。
氧化膜的用途广泛，可作为离子注入的阻挡层及注入穿透层（损伤缓冲层）、表面钝化、绝缘栅材料以及器 ...]]></description>
      <category>氧化退火</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Sat, 27 Jul 2024 19:13:13 +0000</pubDate>
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