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    <title>半导贴吧 - 刻蚀设备</title>
    <link>https://www.bdtb6666.com/forum-51-1.html</link>
    <description>Latest 20 threads of 刻蚀设备</description>
    <copyright>Copyright(C) 半导贴吧</copyright>
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    <lastBuildDate>Mon, 01 Jun 2026 21:17:17 +0000</lastBuildDate>
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      <title>半导贴吧</title>
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      <title>干法刻蚀设备分类有哪些</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-879-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[干法刻蚀设备根据工作原理、结构特点和适用材料可分为以下几类：
[hr]‌一、按等离子体激发方式分类‌
[*]‌电容耦合等离子体刻蚀机（CCP）‌

[*]通过射频电场在平行电极板间激发等离子体，分为两种模式：

[*]‌等离子体刻蚀模式（PE）‌：硅片置于接地极板，以活性化 ...]]></description>
      <category>刻蚀设备</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Wed, 09 Jul 2025 04:47:48 +0000</pubDate>
    </item>
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      <title>ICP刻蚀机的工作原理</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-669-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[ICP刻蚀机是一种通过电磁感应激发等离子体，结合物理轰击和化学反应实现材料刻蚀的设备。其核心原理和工作流程如下：
[hr]一、基本原理
[*]‌等离子体生成‌

[*]射频电源（通常13.56MHz）向线圈输送高频电流，产生交变磁场。交变磁场穿透反应腔内的气体（如SF₆、CF₄ ...]]></description>
      <category>刻蚀设备</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Tue, 15 Apr 2025 00:59:30 +0000</pubDate>
    </item>
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      <title>ICP刻蚀设备：半导体界的“等离子体厨房”，如何把硅片做成“纳米薯片”？</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-353-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[ICP刻蚀设备：半导体界的“等离子体厨房”，如何把硅片做成“纳米薯片”？  PS：‌ICP刻蚀的全称电感耦合等离子体刻蚀（Inductively Coupled Plasma Etching）‌大家好，欢迎来到半导体制造的“分子料理厨房”！今天我们要介绍的这位大厨，名叫 ‌ICP刻蚀机‌。它不用菜 ...]]></description>
      <category>刻蚀设备</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Mon, 17 Mar 2025 10:25:40 +0000</pubDate>
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      <title>半导体刻蚀机</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-50-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[半导体蚀刻机，是一种关键的工业设备，被广泛应用于半导体制造和微电子行业。
它的主要功能是通过化学或物理方法，将半导体表面的一层材料去除，以达到准确的微米级精度和高度可控性的蚀刻深度。
这种技术被称为蚀刻，通常用于制造微电子器件、集成电路以及其他高科技产 ...]]></description>
      <category>刻蚀设备</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Sat, 27 Jul 2024 19:32:12 +0000</pubDate>
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