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    <title>半导贴吧 - 光刻胶</title>
    <link>https://www.bdtb6666.com/forum-70-1.html</link>
    <description>Latest 20 threads of 光刻胶</description>
    <copyright>Copyright(C) 半导贴吧</copyright>
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    <lastBuildDate>Thu, 16 Apr 2026 22:57:06 +0000</lastBuildDate>
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      <title>半导贴吧</title>
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      <title>光刻胶保存条件</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-971-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[光刻胶的保存条件需严格控制环境参数以确保其性能稳定，具体要点如下：
一、核心保存条件
[*]‌温度控制‌

[*]推荐冷藏温度：多数紫外光刻胶需在5-10℃保存，部分特殊胶种要求-20℃冷冻‌。
[*]温度波动影响：频繁温差变化可能导致胶体变质，需使用恒温冰箱并避免反复 ...]]></description>
      <category>光刻胶</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Sat, 23 Aug 2025 01:11:31 +0000</pubDate>
    </item>
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      <title>2025年全球及中国光刻胶厂家排名与分析</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-960-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[2025年全球及中国光刻胶厂家排名与分析
全球光刻胶厂家排名
根据最新市场数据，2025年全球光刻胶市场仍由日美企业主导，前五大厂商占据约85%的市场份额。以下是全球主要光刻胶生产厂家排名：

[*]‌JSR株式会社‌（日本）

[*]创立于1957年，全球领先的光刻胶生产商
[*] ...]]></description>
      <category>光刻胶</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Mon, 18 Aug 2025 07:09:39 +0000</pubDate>
    </item>
    <item>
      <title>中国光刻胶产业现状分析（截至2025年4月）</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-687-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[中国光刻胶产业现状分析（截至2025年4月）
一、市场规模与增长
[*]‌市场规模持续扩大‌
中国光刻胶市场规模从2019年的81.4亿元增长至2024年的215亿元，年复合增长率达21.7%。预计2025年将突破280亿元，其中半导体光刻胶占比从32%提升至45%‌。
[*]‌下游需求驱动‌
半 ...]]></description>
      <category>光刻胶</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Sun, 20 Apr 2025 04:56:33 +0000</pubDate>
    </item>
    <item>
      <title>KrF和ArF光刻胶的成本差异大吗？</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-686-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[KrF与ArF光刻胶成本差异分析1. ‌价格对比‌
[*]‌KrF光刻胶‌：

[*]单体价格范围：‌500-1000元/公斤‌（即50万-100万元/吨），量产产品如彤程新材的KrF光刻胶价格约‌600万元/吨‌，英特美生产的约‌300万元/吨‌‌。
[*]‌ArF光刻胶‌：

[*]单体价格范围：‌3000-1 ...]]></description>
      <category>光刻胶</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Sun, 20 Apr 2025 04:52:51 +0000</pubDate>
    </item>
    <item>
      <title>光刻胶g线、i线、KrF、ArF、EUV的含义</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-685-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[光刻胶的g线、i线、KrF、ArF、EUV是依据曝光光源波长和技术代际划分的半导体光刻胶类型，具体含义及技术特点如下：
‌1. g线光刻胶‌
[*]‌波长‌：436nm
[*]‌光源‌：高压汞灯发射的g谱线
[*]‌应用‌：适用于早期半导体工艺（800-1200nm制程），主要用于微米级器件制 ...]]></description>
      <category>光刻胶</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Sun, 20 Apr 2025 04:49:44 +0000</pubDate>
    </item>
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      <title>揭秘ArF光刻胶</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-417-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[揭秘ArF光刻胶：半导体制造的“精密画笔”在芯片制造的微观世界里，光刻技术如同一位技艺高超的画家，而光刻胶则是它手中的“画笔”。其中，‌ArF光刻胶‌（Argon Fluoride光刻胶）作为先进制程的核心材料，支撑着从智能手机到超级计算机的现代芯片生产。本文将带你了解 ...]]></description>
      <category>光刻胶</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Sat, 22 Mar 2025 04:27:56 +0000</pubDate>
    </item>
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      <title>光刻胶</title>
      <link>https://www.bdtb6666.com/thread-302-1-1.html</link>
      <description><![CDATA[光刻胶：芯片制造的“隐形画笔”，如何雕刻纳米级电路？在芯片制造的核心环节——光刻工艺中，‌光刻胶（Photoresist）‌扮演着如同“精密画笔”的角色。它虽不直接出现在最终芯片中，却是决定晶体管能否被精准“刻画”的关键材料。从手机处理器到AI芯片，每一枚现代集 ...]]></description>
      <category>光刻胶</category>
      <author>admin</author>
      <pubDate>Thu, 13 Mar 2025 03:20:01 +0000</pubDate>
    </item>
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