CMP抛光材料 今日: 0|主题: 2|排名: 41 

国产抛光液根据应用领域和技术特性可分为以下几类： 🖥️ 一、半导体CMP抛光液（核心领域） [*]‌铜/钨/介质抛光液‌ [*]‌安集科技‌：国内龙头，覆盖铜/钨/介电材料抛光液，市占率23%，7nm产品进入台积电供应链，28nm以下制程纯度达99.99995%。 [*]‌鼎龙股份‌：抛光垫市占率近30%，同步量产抛光液并实现研磨粒子自给， ...

CMP 全称为 Chemical Mechanical Polishing，即化学机械抛光 化学机械抛光（CMP）是晶圆制造的关键步骤，其作用在于减少晶圆表面的不平整，而抛光液、抛光垫是CMP技术的关键耗材，价值量较高，分别占CMP耗材49%和33%的价值量，其品质直接影响着抛光效果，因而对提高晶圆制造质量至关重要。 抛光液/垫技术壁垒较高，高品质 ...