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受激辐射机制
垂直腔面发射激光器(VCSEL)是一种半导体激光器,其工作原理基于受激辐射机制。
基本结构和工作原理
VCSEL的核心结构由多层半导体材料构成,主要包括:
- 有源层(Active Region):通常由量子阱(Quantum Well)组成,负责产生光子。当载流子(电子和空穴)在此复合时,发生受激辐射,释放出光子。
- 谐振腔(Resonant Cavity):VCSEL的光学谐振腔是在垂直于半导体层的方向上形成,通常由上下两层布拉格反射镜(Distributed Bragg Reflectors, DBR)组成。布拉格反射镜由不同折射率的半导体材料交替堆叠而成,能够在特定波长处产生高反射率,形成光的反射和谐振。
- 反射镜(Mirrors):上下两层DBR反射镜具有不同的反射率,底部反射镜的反射率接近100%,而顶部反射镜的反射率略低(通常在90-99%),允许部分光透过以实现激光输出。
- 电极(Electrodes):用于施加电流,注入到有源层中,通过载流子复合产生光子。
工作过程
VCSEL的工作过程主要包括以下几个步骤:
- 电流注入:通过施加电流,电子从N型区注入有源层,空穴从P型区注入有源层。在有源层中,电子与空穴复合,产生光子。
- 光反馈与谐振:产生的光子在上下布拉格反射镜之间的谐振腔中来回反射,逐渐在特定波长处发生受激辐射,从而增大光子数量。这些光子的相位、频率和方向几乎完全相同,形成相干光。
- 激光输出:当光子数量足够多时,部分光子通过顶部反射镜透射出来,形成垂直于芯片表面的激光输出。
应用领域
VCSEL由于其高效、低功耗、易于集成的特点,广泛应用于光通信、传感和3D成像等领域。其独特的垂直发射特性使得在光纤通信、数据中心、3D传感及激光打印等多领域展现出卓越的性能。
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