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外延片边缘生长快?先看气流和温度场 🌡️

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发表于 昨天 08:32 | 显示全部楼层 |阅读模式
本帖最后由 生产队队长 于 2026-11-7 08:48 编辑

✦ 外延片边缘生长快?先看气流和温度场 🌡️ ✦
均匀性不好,先别急着改工艺,看看腔体的「呼吸」。



▪️【为什么】外延生长里最容易被忽视的一对矛盾:中心厚还是边缘厚。边缘长得快,多数不是反应问题,而是气流在边缘形成涡旋、局部温度偏高所致。
▸ 查基座:石墨盘平整度和使用次数要建档,老基座边缘塌陷会改变气流;
▸ 调流场:调小通气量、加大转速,让边界层更均匀;
▸ 看压力:腔压不稳时厚度均匀性会跟着抖,波动数据要留存。
▪️【划重点】把厚度均匀性数据按基座使用批次分组统计,规律马上就出来。


💬 你们的外延均匀性能稳到多少?评论区见 👇

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