查看: 3|回复: 0

📐 同一炉镀出来,边缘比中心厚 3nm

[复制链接]

12

主题

0

回帖

42

积分

版主

积分
42
发表于 昨天 23:48 | 显示全部楼层 |阅读模式
📌 一副伞架,两个世界
镀 550nm 窄带滤光片,中心片 550.0nm,边缘片 553.2nm,一整盘良率只有六成。查了两天不是监控漂,是伞架行星旋转配比没调对——边缘沉积角大,膜厚天然偏高。
🧩 均匀性由三个几何量决定
▍源到基板距离:越近,中心与边缘立体角差越大 🌈
▍伞架自转与公转比:常见 1:4 到 1:6,比例不对,厚度呈花瓣状分布
▍修正挡板轮廓:边缘多挡、中心少挡,把偏差一点点掰回来 📐
▍沉积角还会改柱状生长方向,厚度对了,折射率也可能差 0.02
🔧 把良率从六成拉到九成
✓ 先静态试镀一次:不放修正板,测整盘厚度分布曲线
✓ 按实测曲线反算挡板轮廓,一轮不够就迭代两轮
✓ 每炉放三片监控片(中心、中环、边缘),波长差压到 1nm 内
✓ 换靶材、换坩埚后重测分布,tooling 变了,几何也变了 ⚡
💡 一句话
镀膜的一致性不是靠监控片救的,是靠几何设计算出来的。🔍
你们的修正板是算出来的,还是老师傅一点点磨出来的?👇
您需要登录后才可以回帖 登录 | 立即注册

本版积分规则

关注公众号
免责声明|Archiver|手机版|小黑屋|半导贴吧

相关侵权、举报、投诉及建议等,请发 E-mail:1152577621@qq.com

Powered by Discuz! X5.0 © 2001-2026 Discuz! Team.|渝ICP备2024033348号|渝ICP备2024033348号-1

在本版发帖
关注公众号
QQ客服返回顶部