🪞 EUV光刻机没有透镜，全靠一面面镜子

海纳百川

🪞 EUV光刻机没有透镜，全靠一面面镜子

一句话｜13.5 纳米的光，所有材料都吃它，透镜无解，只能全反射。

▍为什么不能用透镜
光刻本质是投影：把掩模上的图案缩小印到硅片上。
深紫外时代用石英透镜，光能穿过去，方案很干净。
EUV 的波长只有 13.5 纳米，比原子间距大不了多少。
这种光走到哪儿都被吸收，玻璃、空气、水，全都不透明。
📌 透镜这条路，在物理上就被堵死了。
▍那就全部改成反射
💡 既然穿不过去，就让光弹过去。
EUV 光刻机里没有一片透镜，全是镜子。
镜子也不是普通镜子：表面镀四十多层钼/硅薄膜，每层只有几纳米。
靠层与层之间的干涉，把 13.5 纳米的光反射回来，这叫布拉格反射。
🔬 镀膜厚度差一个原子，反射率就往下掉。
▍代价：光一路都在掉血

环节	大致效率
单面反射镜	反射率约 70%
整条光路	十几面镜子，到硅片只剩几个百分点
锡液滴光源	电到光转换不足 1%

所以光源要做大，机组才能输出 250 瓦级，硅片上才够用。
⚠️ 光路还必须真空、无尘、无振动，镜面沾一点污染物就等于报废。

📌 记住这句：EUV 不是把光做得更小，是把光弹了十几次才送到硅片上。