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外延层雾状缺陷反复出现,问题藏在哪一步🌫️

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发表于 半小时前 | 显示全部楼层 |阅读模式
✦ 外延层雾状缺陷反复出现,问题藏在哪一步🌫️ ✦
外延不是长得多厚,而是长得有多干净。

▪️【为什么】现象场景
一批N型外延片在显微镜下出现成片雾状缺陷,缺陷密度从0.3/cm²跳到5/cm²。机台自检全绿,气体纯度报告也合格,产线一度怀疑是检测灯光的问题。
▪️【怎么办】3条对策
▸ 先做基座susceptor检查与高温烘烤,HCl气相抛光每班一次,温度1150℃保持10分钟
▸ 核对生长速率与温度曲线,速率突然从2.5μm/min提到3.2,界面易出现位错聚集
▸ 排查气路微漏,氦检漏打到1×10⁻⁹ Pa·m³/s,别只看总压
▪️【划重点】雾状缺陷九成来自「看不见的脏」,不是机台报警的那部分。

💬 你们遇到外延雾度超标,第一步先拆哪?
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