光刻CD忽大忽小，涂胶显影的暗坑你踩过吗🎯

生产队队长

✦ 光刻CD忽大忽小，涂胶显影的暗坑你踩过吗🎯 ✦

曝光决定下限，涂胶显影决定上限。

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▪️【为什么】现象场景
同一片wafer上CD从0.35μm飘到0.42μm，曝光机focus曲线正常。查了两天才发现是显影液温度波动1.5℃，加上涂胶后静置时间不一致，胶膜溶剂残留不同。
▪️【怎么办】3条对策
▸ 把显影液温度锁在23±0.3℃，显影时间60s固定，别按经验「看颜色」
▸ 涂胶后静置时间统一到90s，前后批差异控制在±10s
▸ 每班做CD-SEM五点监控，超过±5%立刻回查软烘温度95±2℃
▪️【划重点】CD不稳，先看环境与时间，再谈光学。

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💬 你们的CD漂移，最后查到哪一环？