刻蚀选择比不够，后面全是连锁反应⚔️

生产队队长

✦ 刻蚀选择比不够，后面全是连锁反应⚔️ ✦

刻得深不算本事，停得准才是。

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▪️【为什么】现象场景
通孔刻蚀时对氮化硅选择比只有6:1，过刻15%后底部硅已经起毛。后续填充长不上，良率直接掉两成。追根究底是腔体老化和气体配比漂移。
▪️【怎么办】3条对策
▸ 每批做选择比监控片，SiN/Si选择比低于8:1就调整CHF₃/CF₄比例
▸ 用OES终点检测，信号拐点后再过刻8%~10%，别只凭时间
▸ 腔体每500片做waferless clean，把聚合物清干净，避免侧壁粗糙
▪️【划重点】刻蚀的功夫，一半在刻，一半在停。

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💬 你们靠时间还是靠终点检测收刀？