离子注入剂量漂移，先别怀疑机台🎛️

生产队队长

✦ 离子注入剂量漂移，先别怀疑机台🎛️ ✦

注入的是离子，考验的是整套系统。

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▪️【为什么】现象场景
一片wafer的方阻比目标低6%，机台自检剂量正常。查了半天发现是束流角度偏了2°，加上片子表面有光刻胶残留，实际注入深度和剂量都变了，而这一批的监控片恰好漏跑了，数据成了盲区。
▪️【怎么办】3条对策
▸ 每天做法拉第杯校准，剂量偏差超±2%先校束流再谈配方
▸ 控制tilt角在7°避免沟道效应，角度偏差不超±0.5°
▸ 注入前确认前层清洁，残留胶会让Rp偏移，退火后Rs对不上
▪️【划重点】注入的每一次偏差，都会在退火后被放大。

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💬 你们的剂量监控片多久跑一次？