CMP划痕与碟形凹陷，抛光液背了多少锅🪞

生产队队长

✦ CMP划痕与碟形凹陷，抛光液背了多少锅🪞 ✦

磨平表面容易，磨平一致性难。

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▪️【为什么】现象场景
铜CMP后表面出现细密划痕，dishing达60nm，远超规格。大家第一反应是抛光液有颗粒，换了三批液还是一样，最后发现是抛光垫用了800片没换，沟槽里结了硬块。
▪️【怎么办】3条对策
▸ 抛光垫按使用片数更换，600~800片为一个周期，别等划痕出现
▸ 抛光液在线过滤0.2μm，流量稳定在200ml/min，沉淀就是划痕源
▸ 每批测dishing/erosion，超30nm就调压力2psi、转速93rpm的配比
▪️【划重点】CMP的敌人不是磨料，而是「不均匀」。

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💬 你们的抛光垫按片数还是按时间换？