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🔬 胶厚差 5 纳米,CD 就能差出一截

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发表于 14 小时前 | 显示全部楼层 |阅读模式
✦ 🔬 胶厚差 5 纳米,CD 就能差出一截 ✦
光刻的上限,在旋涂那一刻就定了。

▪️【为什么】边缘胶厚偏厚、甩胶转速漂移,显影后同一片晶圆中心与边缘 CD 均一性差出半个量级,套刻精度跟着遭殃,曝光窗口越调越窄。
▪️【怎么办】
▸ 旋涂转速按目标胶厚 ±50rpm 锁定,排胶时间不少于 30s
▸ 边缘去除(BER)喷嘴定期点检,防止边缘厚胶造成套刻失配
▸ 胶厚抽测用椭偏仪 5 点法,超出 ±2% 立即回调转速与排胶曲线
▪️【划重点】均匀的胶厚,是稳定 CD 的第一步。
💬 你们的胶厚抽测频次是怎么定的?
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