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🌿外延生长总出雾状缺陷?过渡层是关键

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发表于 4 小时前 | 显示全部楼层 |阅读模式
✦ 🌿外延生长总出雾状缺陷?过渡层是关键 ✦
外延片的表面雾点,十有八九是过渡层没铺干净的账。

▪️【为什么】现象场景
衬底进炉前看着光亮如镜,长完外延却在显微镜下泛起一层灰雾。查来查去,问题多半出在生长初期的界面过渡:衬底氢气原位清洗不彻底,残留的天然氧化层让硅原子排列断了代,位错一路向上繁殖,最后在表面显形成雾状缺陷。
▪️【怎么办】实战对策
▸ 原位氢清洗温度提足并保够时间,温度低了洗不掉,时间短了洗不透;
▸ 主生长前先长一层低温缓冲层,把晶格失配在薄层里消化掉;
▸ 反应腔压强与气体配比逐炉核对,MO源流量波动超过设定值±3%就停机排查管路。
▪️【划重点】外延质量是衬底决定下限、过渡层决定上限,两层都要硬。

💬 你的炉台长雾点时最先查什么?把你的排查顺序写在评论里
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