腔面镀膜
在大多数半导体边发射激光器应用中,希望大部分的光都能从单面出射,这就需要在半导体腔面上镀制高反膜(HR),用来引导大部分光从前腔面出射,从而提高半导体激光器功率并降低损耗。
为了制备良好的单模器件,正面镀制减反膜(AR)是很重要的 ,如果没有AR膜,激光器可能存在多波长激射。
高质量腔面光学薄膜,不仅能提高 ...
真空解理镀膜设备资料
半导体腔面镀膜工艺流程
微观下的星辰大海
蒸镀出站检验,显微镜形貌照片,偶然发现,挺美的。
什么是Lift-Off工艺?
所谓Lift-Off工艺,即揭开一剥离工艺,它是制作金属互连、导线和其他结构时的一种替代光刻和蚀刻过程的方法。
图1、普通光刻工艺示意图
我们先来看一下普通的光刻工艺(如图1所示):首先进行成膜,然后将涂布在基板上的光刻胶进行图形化曝光,显影除去曝光的光刻胶,接着进行刻蚀,最后将剩余光刻胶剥离,留在基板 ...