蒸发镀膜必须高真空的4个核心原因
1. 防止蒸发的金属粒子被空气撞飞,保证膜层均匀
常压/低真空下腔体内充满氮气、氧气分子。
加热蒸发出来的铝、铬、金等金属原子,飞行途中会不断和气体分子碰撞、偏转、能量衰减:
- 原子乱飞,无法直线打到基板;
- 膜层厚薄不均、漏镀、边缘发白;
高真空下气体分子极少,金属原子直线直达基板,镀膜平整均匀。
2. 避 ...
BFM监控与QCM监控
BFM(束流强度监控)与QCM(石英晶体微天平)是两种广泛应用于薄膜制备和材料分析领域的原位监测技术,其核心功能与原理对比如下:
一、BFM监控(Beam Flux Monitor)
[*]功能定位
BFM主要用于分子束外延(MBE)等真空镀膜系统中,实时监测蒸发源分子束流的强度。通过电离规测量束流密度,确保薄膜生长过程中束流 ...
束流规如何监控MBE膜厚
分子束外延(MBE)中,束流规(即束流流量监控器)通过以下原理监控膜厚:
[*]束流强度实时监测
束流规直接测量蒸发源喷射的分子束流强度。通过电离规或传感器检测分子束的流量密度,将流量信号转化为电信号输出,实时反映单位时间内材料沉积速率。
[*]膜厚计算与控制
结合沉积时间,根据公式 膜厚 = 束流强度 ...
AIXTRON AIX 2800G4 MOCVD设备工作原理详解
AIXTRON AIX 2800G4 MOCVD设备工作原理详解AIXTRON(爱思强)的AIX 2800G4是一款广泛应用于化合物半导体外延(Epitaxy)工艺的金属有机化学气相沉积(MOCVD)设备。该设备主要用于生产氮化镓(GaN)、砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)等高性能半导体材料,是制造LED、功率电子器件、射频器件和光电子器件的核心设备之一。以下 ...
腔面镀膜设备工作原理