MOCVD/MBE
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腔面镀膜是一种在光学零件表面镀上一层或多层金属(‌或介质)‌薄膜的工艺过程,‌旨在减少或增加光的反射、‌分束、‌分色、‌滤光、‌偏振等要求。‌这种镀膜技术通过物理或化学方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜或金属膜,‌以改变材料表面的反射和透射特性。‌在可见光和红外线波段范围内,‌大多数金属的反射率可以达到78%至98%,‌但不应超过98%。‌腔面镀膜的应用广泛,‌包括但不限于提高光学仪器的性能、‌减少光线损失、‌增强图像质量等。‌例如,‌在光学瞄准镜中,‌通过镀膜技术可以显著提高光线的透穿率,‌使得整个瞄准镜的光线透穿率可达95%以上。‌此外,‌腔面镀膜还在眼镜、‌汽车等领域有广泛应用,‌通过改善光线传递效率,‌提升视觉体验和保护视力。
  • BFM监控与QCM监控
    BFM(束流强度监控)与QCM(石英晶体微天平)是两种广泛应用于薄膜制备和材料分析领域的原位监测技术,其核心功能与原理对比如下: ‌一、BFM监控(Beam Flux Monitor)‌ [*]功能定位‌ BFM主要用于分子束外延(MBE)等真空镀膜系统中,‌实时监测蒸发源分子束流的强度‌。通过电离规测量束流密度,确保薄膜生长过程中束流 ...
    01667 admin 发表于 2025-6-16 MOCVD/MBE
  • 束流规如何监控MBE膜厚
    分子束外延(MBE)中,束流规(即束流流量监控器)通过以下原理监控膜厚: [*]‌束流强度实时监测‌ 束流规直接测量蒸发源喷射的分子束流强度。通过电离规或传感器检测分子束的流量密度,将流量信号转化为电信号输出,实时反映单位时间内材料沉积速率。 [*]‌膜厚计算与控制‌ 结合沉积时间,根据公式 ‌膜厚 = 束流强度 ...
    01658 admin 发表于 2025-5-24 MOCVD/MBE
  • AIXTRON AIX 2800G4 MOCVD设备工作原理详解
    AIXTRON AIX 2800G4 MOCVD设备工作原理详解AIXTRON(爱思强)的AIX 2800G4是一款广泛应用于化合物半导体外延(Epitaxy)工艺的金属有机化学气相沉积(MOCVD)设备。该设备主要用于生产氮化镓(GaN)、砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)等高性能半导体材料,是制造LED、功率电子器件、射频器件和光电子器件的核心设备之一。以下 ...
    02690 admin 发表于 2025-3-25 MOCVD/MBE
  • 腔面镀膜设备工作原理
    04509 admin 发表于 2024-7-23 MOCVD/MBE 阅读权限 30
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