光刻的基本原理

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光刻技术的基本原理是利用光的特性，通过光源、掩膜、光敏材料和显影等步骤，将图案传输到待加工的基片上。

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‌光的特性‌：‌

• ‌波粒二象性‌：光具有波和粒子的双重性质。在空间中传播时，光表现为波动性；而在与物质相互作用时，则表现为粒子性。
• ‌光的直线传播‌：在同一种均匀介质中，光沿直线传播。当光遇到障碍物时，会发生反射和折射现象。
• ‌光的独立性‌：两束光在相遇时可以独立传播，不会因为彼此的相遇而产生相互作用。
• ‌光的干涉与衍射‌：光具有波动性，可以发生干涉和衍射现象。
• ‌光的偏振‌：部分光波的振动方向会与传播方向形成一定的角度。
• ‌光的颜色‌：不同波长的光呈现不同的颜色。人眼能感知到的可见光波长范围在400-700纳米之间。
• ‌光的能量量子化‌：光的能量是量子化的，构成光的量子称为光子。
• ‌光的速度‌：在真空中光的传播速度最快，约为每秒299,792千米（约3×10⁸米/秒），在介质中光的速度会减慢。
• ‌光的散射‌：当光线在介质中传播时，由于微小颗粒物或分子的存在，光线会向各个方向散射。