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🌫️ 镀完测是准的,放三天波长跑了 8nm

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发表于 昨天 06:02 | 显示全部楼层 |阅读模式
📌 出厂合格,客户手上不合格
腔体抽到 2×10⁻⁴ Pa,烘烤 150℃ 四小时,镀完当场测中心波长 532.0nm,很漂亮。放三天再测 532.8nm,一周后 533.5nm。不是仪器漂,是膜在吸潮。
🧩 电子束蒸发的柱状生长
▍蒸发膜是柱状结构,柱间有空隙,孔隙率能到 5%~10%
▍水汽钻进去,等效折射率升高,光程变长,谱线整体红移 🌈
▍应力同时累积:TiO₂ 偏张、SiO₂ 偏压,二十层交替下来基板面形从 λ/10 翘到 λ/4
🔧 三个能落地的动作
✓ 上离子辅助(IAD)或改离子束溅射,致密度上来,潮气漂移能压到 2nm 内
✓ 镀后 200℃ 退火 2 小时,把吸附水和残余应力一起放掉
✓ 晶振监控的 tooling factor 每批校一次,1% 偏差就是好几纳米 📐
✓ 出厂指标按「稳定后」定,别拿刚下机的数据签收
💡 一句话
膜的性能不是镀出来的,是稳定下来的。🔍
你们的光谱指标,是下机测还是老化后测?👇
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