镀一层膜只长一个原子层，多长一点都不行

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✦ 镀一层膜只长一个原子层，多长一点都不行 ✦

制造设备 · 薄膜沉积 ALD ｜ 阅读约 60 秒

先抛个问题：深宽比 40:1 的孔，孔口和孔底要镀上一样厚的膜，靠"蒸发"能行吗？

🧩 视线沉积的死角 PVD 像喷漆，原子走直线。孔越深，孔口先接住大部分，底部只能捡漏。40:1 的接触孔，孔底厚度常常只有孔口的十分之一，台阶覆盖性直接崩掉。

⚙️ 让它自己停下来 ALD 把反应拆成两步：第一种前驱体进来，只跟表面的活性位点结合，位点占满就自动停；吹扫掉多余的；第二种前驱体进来，跟已吸附的那层反应。一个循环，正好一个原子层。厚度不靠时间控制，靠"饱和"控制——这是它和 CVD 最根本的区别。

📉 慢是买来的确定性 每循环只长 0.05~0.1 纳米，一个循环要 3~5 秒。想做 20 纳米，得跑 200~400 个循环，一片晶圆在腔里躺一个多小时。所以 ALD 只舍得用在最薄也最难的那几层：栅氧、阻挡层、侧壁 spacer。保形性能做到 95% 以上。

🎯 一句话带走 ALD 不是长得慢，是长得准：用饱和代替时间，用循环换保形。

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