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电镀铜填孔无空洞的4条军规

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发表于 5 小时前 | 显示全部楼层 |阅读模式
✦ 电镀铜填孔无空洞的4条军规 ✦
一颗空洞,就是一颗“定时炸弹”,可靠性试验必炸。

▪️【为什么】先进制程TSV与Interposer依赖电镀铜填孔,孔底无籽晶层、电流分布不均时极易形成底部空洞,TSV漏电测试能直接把良率打穿。
▪️【怎么办】
▸ 1. 前段润湿+超声除泡做足,孔内气泡不除,什么配方都白搭;
▸ 2. 选用加速剂/抑制剂/整平剂三元添加剂体系,底部抑制、孔口整平,实现自底向上生长;
▸ 3. 电镀初期用脉冲电流,正向占空比压低,控制形核密度;
▸ 4. 每批抽片做X-Ray/截面FIB检查空洞率,别只看镀层厚度报表。
▪️【划重点】无空洞电镀 = 润湿打底 + 添加剂配方 + 脉冲电流 + 抽检验证,四条缺一不可。

💬 你们电镀线做过X-Ray全检还是抽检?空洞率最高多少?评论区见
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