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光掩模

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光掩模今日: 0|主题: 7|排名: 10

光刻版（又称掩膜版、光罩）是半导体制造中光刻工艺的核心工具，其功能是将预先设计的电路图案转移到晶圆表面，直接影响芯片性能和良率。

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