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  • 化学机械抛光(CMP)中常用的磨料
    文章转载来源微信公众号: 粉体圈 原创 Alice 化学机械抛光(CMP)是一种超精密的表面加工技术,其通过化学腐蚀和机械磨削的双重耦合作用,来实现工件表面纳米级的局部或全局平坦化。在CMP过程中,磨料作为机械作用和化学作用的直接实施者和传递者起到了非常关键的作用,其硬度、粒径、形状、用量等参数都会影响着抛光的 ...
    09645 admin 发表于 2024-8-24 研磨大队
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