只需一步,快速开始
887
100
3786
管理员
结论:湿法刻蚀 短期成本优势明显,但干法刻蚀因精度不可替代,在先进制程中虽设备投入高,却可通过高良率与集成度平衡总成本。1012 据2025年市场数据,干法刻蚀设备占半导体设备总投资的20%-25%,远超湿法(<5%)。
使用道具 举报
本版积分规则 发表回复 回帖并转播 回帖后跳转到最后一页
|免责声明|Archiver|手机版|小黑屋|半导贴吧 ( 渝ICP备2024033348号|渝ICP备2024033348号-1 )
GMT+8, 2025-8-2 22:37 , Processed in 0.103411 second(s), 20 queries .
Powered by Discuz! X3.5
© 2001-2025 Discuz! Team.