找回密码
 立即注册

微信登录

只需一步,快速开始

QQ登录

只需一步,快速开始

搜索
热搜: 光刻 刻蚀
查看: 160|回复: 1

除氟剂在半导体行业污水处理的作用

[复制链接]

1

主题

0

回帖

5

积分

新手上路

积分
5
发表于 2025-12-19 17:35:13 | 显示全部楼层 |阅读模式
除氟剂在半导体污水处理中是个绝对的“关键角色”,它的应用直接关系到企业能否环保达标、稳定生产。简单来说,半导体生产过程中会大量使用氢氟酸(HF)进行晶圆的蚀刻和清洗,这就导致废水中含有高浓度的氟离子。氟化物是有毒有害物质,会污染土壤和水源,因此国家和地方的排放标准都非常严格,通常要求处理后水中的氟离子浓度低于1mg/L,甚至更低。除氟剂的核心任务,就是将这些“顽固”的氟离子从水中高效、稳定地。
除氟是实现“零排放”或高比例回用的关键一环。只有将水中的氟离子等污染物彻底去除,处理后的水才能重新用于生产,实现水资源的循环再生,既环保又经济。

1021

主题

116

回帖

4454

积分

管理员

积分
4454
发表于 2025-12-20 20:17:54 来自手机 | 显示全部楼层
半导贴吧,共享芯未来。
亲爱的朋友们,欢迎来到半导贴吧,期待您分享精彩的内容!
回复

使用道具 举报

您需要登录后才可以回帖 登录 | 立即注册

本版积分规则

QQ|免责声明|Archiver|手机版|小黑屋|半导贴吧 ( 渝ICP备2024033348号|渝ICP备2024033348号-1 )

GMT+8, 2026-1-15 12:32 , Processed in 0.080697 second(s), 20 queries .

Powered by Discuz! X3.5

© 2001-2026 Discuz! Team.

快速回复 返回顶部 返回列表