有了华为改变行业的韬定律 我国还要自研EUV光刻机吗：院士给答案

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我国仍然需要自研EUV光刻机，并且需要加大投入研发‌，我国半导体物理界泰斗褚君浩院士明确给出答案：韬定律叠加自研EUV，能产生1+1大于2的叠加效应，是中国半导体突围的正确路径。

具体原因：

• ‌技术定位不同，无法互相替代‌
  华为的韬定律是架构和软件层面的创新，靠逻辑折叠技术用时间缩微替代传统的几何缩微，本质是在现有硬件基础上做极致优化，可以让DUV光刻机发挥更大潜力，但无法替代EUV光刻机本身，二者搭配才能实现性能的几何级提升。
• ‌产业竞争需要多路线布局‌
  芯片产业竞争是全维度的，不能把所有希望寄托在一条技术路线上。传统几何缩微路线虽然遇到瓶颈，但很长一段时间内依然是高端芯片的主流，如果放弃EUV研发，等于主动放弃高端制程的话语权，未来仍会面临"卡脖子"风险。
• ‌研发本身带动工业体系升级‌
  EUV光刻机涉及光学、精密机械、材料等几十个学科的顶尖技术，攻克它的过程本身就会带动整个国家工业体系的升级，对我国高端制造业发展有极高的战略价值。
  

华为韬定律的价值：
韬定律给全球半导体产业开拓了全新发展思路，它不拼晶体管物理大小，而是通过逻辑折叠堆叠电路，实测显示华为仅用一年就将晶体管密度提升53.5%，芯片面积缩小12.7%，已经验证了新路线的可行性。不过它要成为全行业公认的通用准则，还需要更长时间的产业落地和实践验证。