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2025年全球及中国光刻胶厂家排名与分析
全球光刻胶厂家排名
根据最新市场数据,2025年全球光刻胶市场仍由日美企业主导,前五大厂商占据约85%的市场份额。以下是全球主要光刻胶生产厂家排名:
- JSR株式会社(日本)
- 创立于1957年,全球领先的光刻胶生产商
- 产品覆盖前道和后道工艺的涂层材料,包括光刻胶、研磨液和清洗剂等
- 2025年开发出可用于32nm的浸没式ArF光刻胶技术
- TOK东京应化(日本)
- 成立于1940年,历史悠久的化学材料企业
- 产品覆盖橡胶型负性光刻胶、g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶等
- 1968年和1972年先后开发出半导体用负型胶和正型胶
- ShinEtsu信越化学(日本)
- 始创于1926年,全球知名高科技原材料供应商
- KrF光刻胶和ArF光刻胶行业领先者
- 产品包括I/g线光刻胶、Krf光刻胶、ArF光刻胶和EUV光刻胶
- DuPont杜邦(美国)
- 创立于1802年的化工业巨头
- 产品主要涵盖i线光刻胶、g线光刻胶、ArF光刻胶、KrF光刻胶
- 光刻胶业务源于对罗门哈斯的收购
- 住友化学(日本)
- 日本大型综合化学企业
- 在半导体材料领域有深厚积累
- 产品覆盖多种光刻胶类型
其他重要国际厂商还包括FUJIFILM富士、Dongjin、Kempur等。
中国光刻胶厂家排名
在国产替代背景下,中国光刻胶企业在2025年取得了显著进展,以下是国内主要光刻胶生产厂家排名:
- 南大光电(300346)
- 国内唯一实现28nm制程ArF光刻胶量产的企业
- 2025年产能达500吨,国产替代率突破30%
- 客户覆盖中芯国际、长江存储等主要晶圆厂
- 彤程新材(603650)
- 旗下北京科华微电子占国内KrF光刻胶市场份额超40%
- ArF胶通过客户验证并连续量产
- 与ASML合作开发EUV封装技术,2025年产能翻倍至2000吨
- 晶瑞电材(300655)
- 子公司苏州瑞红占国内g/i线光刻胶市场份额30%
- 新增5万吨半导体级光刻胶项目2025年投产
- 车规级认证构筑技术壁垒
- 上海新阳(300236)
- 覆盖g/i线、KrF、ArF全品类光刻胶
- 自研193nm ArF胶通过验证
- 配套显影液、蚀刻液形成技术协同优势
- 雅克科技(002409)
- 主要业务包括半导体前驱体材料、光刻胶及配套试剂等
- 在DRAM上可以满足全球最先进存储芯片制程的量产供应
- 光刻胶产品覆盖多种技术节点
其他重要国产厂商还包括久日新材、容大感光、鼎龙股份、华懋科技等。
市场份额与技术特点分析市场份额- 全球光刻胶市场高度集中,前五大厂商(JSR、TOK、信越、杜邦、住友)占据约85%市场份额
- 2024年全球半导体光刻胶市场规模为30.75亿美元,预计2031年将达51.98亿美元,CAGR为7.23%
- 中国厂商整体市场份额仍较低,但在KrF和部分ArF光刻胶领域已实现突破,国产替代率约30%
技术特点光刻胶类型 | 适用制程 | 主要厂商 | 技术特点 | EUV光刻胶 | 7nm以下 | JSR、TOK | 单价超$5,000/升,技术壁垒最高 | ArF光刻胶 | 28-130nm | 信越、杜邦、南大光电 | 单价2,000−2,000−3,000/升,国产已突破 | KrF光刻胶 | 130-350nm | TOK、彤程新材 | 树脂成本占比高达75% | i/g线光刻胶 | >350nm | 晶瑞电材、上海新阳 | 技术相对成熟,国产化率较高 | 1617
国产技术突破- 南大光电:实现28nm制程ArF光刻胶量产,应用于14nm逻辑芯片与50nm存储芯片
- 彤程新材:KrF光刻胶国内市占率超40%,ArF胶通过验证并量产
- 晶瑞电材:i线光刻胶国内市占率超40%,KrF胶已量产供货中芯国际
- 上海新阳:KrF光刻胶用于28nm制程,晶圆级封装光刻胶国内领先
总结
2025年全球光刻胶市场仍由日美企业主导,但中国厂商在国产替代政策支持下取得了显著技术进步。南大光电、彤程新材、晶瑞电材等企业已在部分高端光刻胶领域实现突破,国产替代率逐步提升。未来随着中国半导体产业的持续发展,国产光刻胶企业有望在全球市场中占据更重要的地位。
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